Advanced Energy Industries
[WKN: 898006 | ISIN: US0079731008] Aktienkurse
86,750€ -1,14%
Echtzeit-Aktienkurs Advanced Energy Industries
Bid: 86,500€ Ask: 87,000€
Allgemeine Informationen
Börsenwert:3,33 Mrd. USD (38,39 Mio. x 86,750€)
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  2017201820192020
KUV 5,124,614,222,35
KGV 25,2923,2251,4224,83
Div. Rend. ----
Quelle: Facunda

Echtzeit-Chart der Advanced Energy Industries Aktie

Advanced Energy Industries Chart

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Börsenkurse Advanced Energy Industries
Börse Frankfurt 87,500€ 800 88,000€ 800 87,750€ 2,63%
Euro Indikation 86,500€ 0 87,000€ 0 86,750€ -0,29%
Lang & Schwarz 85,500€ 137 88,000€ 137 86,750€ -1,14%
Nasdaq 102,990$ 600 103,010$ 400 103,000$ -0,72%
Bats USA - - - - - -
Börse Stuttgart 86,500€ 0 86,500€ 0 86,500€ 1,17%
Tradegate 86,500€ 46 87,000€ 45 86,750€ -1,14%
Dollar Indikation 102,641$ 0 104,052$ 0 103,347$ -0,39%

Fundamentaldaten der Advanced Energy Industries Aktie

Aktuelle Geschäftsentwicklung

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Income Statement: 10-Year-Summary

Datum Umsatz EBIT Gewinn EPS Dividende KGV KUV
2020 [USD] 1,42 Mrd. 158,15 Mio. 134,68 Mio. 3,49 - 24,83 2,35
2019 [USD] 788,95 Mio. 67,19 Mio. 64,94 Mio. 1,69 - 51,42 4,22
2018 [USD] 718,89 Mio. 172,38 Mio. 147,03 Mio. 3,74 - 23,22 4,61
2017 [USD] 671,01 Mio. 198,19 Mio. 137,86 Mio. 3,43 - 25,29 5,12
2016 [USD] 483,70 Mio. 128,08 Mio. 127,45 Mio. 3,18 - 27,28 7,12
2015 [USD] 414,81 Mio. 105,44 Mio. -158,49 Mio. -3,86 - - 8,31
2014 [USD] 583,10 Mio. 39,68 Mio. 46,98 Mio. 1,14 - 76,10 6,04
2013 [USD] 547,00 Mio. 14,28 Mio. 32,09 Mio. 0,79 - 109,81 6,42
2012 [USD] 451,93 Mio. 29,81 Mio. 20,58 Mio. 0,52 - 166,83 7,29
2011 [USD] 516,80 Mio. 50,47 Mio. 36,31 Mio. 0,83 - 104,52 7,04
Die Multiples wie die KGVs werden mit der Bilanzwährung und dem Kurs des ausgewählten Börsenplatzes berechnet. Wählen Sie den Börsenplatz mit der Bilanzwährung aus, damit die Multiples korrekt sind. Die fundamentalen Daten werden von Facunda geliefert; Multiples werden mit dem aktuellen Kurs berechnet.

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Profil der Advanced Energy Industries Aktie

Advanced Energy Industries, Inc. engages in the provision of precision power conversion, measurement, and control solutions. It offers products used in complex semiconductor and thin film plasma processes such as dry etch, strip, chemical and physical deposition; high and low voltage applications such as process control, analytical instrumentation and medical equipment; and in temperature-critical thermal applications such as material and chemical processing. The company was founded by Douglas S. Schatz in 1981 and is headquartered in Fort Collins, CO.
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