Advanced Energy Industries Inc.
[WKN: 898006 | ISIN: US0079731008] Aktienkurse
82,250€ -0,30%
Echtzeit-Aktienkurs Advanced Energy Industries Inc.
Bid: 81,000€ Ask: 83,500€
Allgemeine Informationen
Börsenwert:3,11 Mrd. USD (37,79 Mio. x 82,250€)
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  2017201820192020
KUV 4,854,374,002,22
KGV 23,9822,0248,7623,54
Div. Rend. ----
Quelle: Facunda

Echtzeit-Chart der Advanced Energy Industries Inc. Aktie

Advanced Energy Industries Inc. Chart

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Börsenkurse Advanced Energy Industries Inc.
Börse Frankfurt 82,000€ 400 82,500€ 400 82,250€ 2,81%
Euro Indikation 82,000€ 0 82,500€ 0 82,250€ 0,92%
Lang & Schwarz 81,000€ 146 83,500€ 146 82,250€ -0,30%
Nasdaq 93,730$ 10694 93,970$ 1200 93,730$ 1,74%
Bats USA - - - - - -
Börse Stuttgart 82,000€ 0 82,000€ 0 82,000€ -0,30%
Tradegate 82,000€ 74 82,500€ 73 82,250€ 0,00%
Dollar Indikation 93,261$ 0 93,832$ 0 93,546$ -0,20%

Fundamentaldaten der Advanced Energy Industries Inc. Aktie

Aktuelle Geschäftsentwicklung

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Income Statement: 10-Year-Summary

Datum Umsatz EBIT Gewinn EPS Dividende KGV KUV
2020 [USD] 1,42 Mrd. 158,15 Mio. 134,68 Mio. 3,49 - 23,54 2,22
2019 [USD] 788,95 Mio. 67,19 Mio. 64,94 Mio. 1,69 - 48,76 4,00
2018 [USD] 718,89 Mio. 172,38 Mio. 147,03 Mio. 3,74 - 22,02 4,37
2017 [USD] 671,01 Mio. 198,19 Mio. 137,86 Mio. 3,43 - 23,98 4,85
2016 [USD] 483,70 Mio. 128,08 Mio. 127,45 Mio. 3,18 - 25,86 6,75
2015 [USD] 414,81 Mio. 105,44 Mio. -158,49 Mio. -3,86 - - 7,88
2014 [USD] 583,10 Mio. 39,68 Mio. 46,98 Mio. 1,14 - 72,15 5,73
2013 [USD] 547,00 Mio. 14,28 Mio. 32,09 Mio. 0,79 - 104,11 6,09
2012 [USD] 451,93 Mio. 29,81 Mio. 20,58 Mio. 0,52 - 158,17 6,91
Die Multiples wie die KGVs werden mit der Bilanzwährung und dem Kurs des ausgewählten Börsenplatzes berechnet. Wählen Sie den Börsenplatz mit der Bilanzwährung aus, damit die Multiples korrekt sind. Die fundamentalen Daten werden von Facunda geliefert; Multiples werden mit dem aktuellen Kurs berechnet.

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Profil der Advanced Energy Industries Inc. Aktie

Advanced Energy Industries, Inc. engages in the provision of precision power conversion, measurement, and control solutions. It offers products used in complex semiconductor and thin film plasma processes such as dry etch, strip, chemical and physical deposition; high and low voltage applications such as process control, analytical instrumentation and medical equipment; and in temperature-critical thermal applications such as material and chemical processing. The company was founded by Douglas S. Schatz in 1981 and is headquartered in Fort Collins, CO.
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