Advanced Energy Industries Inc.
[WKN: 898006 | ISIN: US0079731008] Aktienkurse
90,797$ 0,18%
Echtzeit-Aktienkurs Advanced Energy Industries Inc.
Bid: 89,895$ Ask: 91,698$
Allgemeine Informationen
Börsenwert:3,48 Mrd. USD (38,38 Mio. x 90,797$)
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  2017201820192020
KUV 5,364,824,412,46
KGV 26,4724,3053,8225,99
Div. Rend. ----
Quelle: Facunda

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Börsenkurse Advanced Energy Industries Inc.
Börse Frankfurt 77,500€ 800 78,000€ 800 77,750€ 0,97%
Euro Indikation 76,500€ 0 78,000€ 0 77,250€ 0,32%
Lang & Schwarz 77,000€ 323 78,000€ 323 77,500€ -0,64%
Nasdaq 90,839$ 205 90,859$ 200 90,849$ 0,24%
Bats USA - - - - - -
Börse Stuttgart 76,500€ 3000 78,000€ 1500 77,250€ 0,00%
Tradegate 77,500€ 80 78,000€ 80 77,750€ 0,65%
Dollar Indikation 89,895$ 0 91,698$ 0 90,797$ 0,18%

Fundamentaldaten der Advanced Energy Industries Inc. Aktie

Aktuelle Geschäftsentwicklung

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Income Statement: 10-Year-Summary

Datum Umsatz EBIT Gewinn EPS Dividende KGV KUV
2020 [USD] 1,42 Mrd. 158,15 Mio. 134,68 Mio. 3,49 - 25,99 2,46
2019 [USD] 788,95 Mio. 67,19 Mio. 64,94 Mio. 1,69 - 53,82 4,41
2018 [USD] 718,89 Mio. 172,38 Mio. 147,03 Mio. 3,74 - 24,30 4,82
2017 [USD] 671,01 Mio. 198,19 Mio. 137,86 Mio. 3,43 - 26,47 5,36
2016 [USD] 483,70 Mio. 128,08 Mio. 127,45 Mio. 3,18 - 28,55 7,45
2015 [USD] 414,81 Mio. 105,44 Mio. -158,49 Mio. -3,86 - - 8,70
2014 [USD] 583,10 Mio. 39,68 Mio. 46,98 Mio. 1,14 - 79,65 6,32
2013 [USD] 547,00 Mio. 14,28 Mio. 32,09 Mio. 0,79 - 114,93 6,72
2012 [USD] 451,93 Mio. 29,81 Mio. 20,58 Mio. 0,52 - 174,61 7,63
2011 [USD] 516,80 Mio. 50,47 Mio. 36,31 Mio. 0,83 - 109,39 7,37
Die Multiples wie die KGVs werden mit der Bilanzwährung und dem Kurs des ausgewählten Börsenplatzes berechnet. Wählen Sie den Börsenplatz mit der Bilanzwährung aus, damit die Multiples korrekt sind. Die fundamentalen Daten werden von Facunda geliefert; Multiples werden mit dem aktuellen Kurs berechnet.

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Profil der Advanced Energy Industries Inc. Aktie

Advanced Energy Industries, Inc. engages in the provision of precision power conversion, measurement, and control solutions. It offers products used in complex semiconductor and thin film plasma processes such as dry etch, strip, chemical and physical deposition; high and low voltage applications such as process control, analytical instrumentation and medical equipment; and in temperature-critical thermal applications such as material and chemical processing. The company was founded by Douglas S. Schatz in 1981 and is headquartered in Fort Collins, CO.
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