Advanced Energy Industries Inc.
[WKN: 898006 | ISIN: US0079731008] Aktienkurse
72,712$ -0,29%
Echtzeit-Aktienkurs Advanced Energy Industries Inc.
Bid: 72,134$ Ask: 73,290$
Allgemeine Informationen
Börsenwert:2,79 Mrd. USD (38,33 Mio. x 72,712$)
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  2016201720182019
KUV 5,974,293,863,54
KGV 22,8721,2019,4643,10
Div. Rend. ----
Quelle: Facunda

Echtzeit-Chart der Advanced Energy Industries Inc. Aktie

Advanced Energy Industries Inc. Chart

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Börsenkurse Advanced Energy Industries Inc.
Börse Frankfurt 61,500€ 800 62,000€ 800 61,750€ -1,20%
Euro Indikation 61,000€ 0 61,500€ 0 61,250€ -3,16%
Lang & Schwarz 60,500€ 193 62,500€ 193 61,500€ -1,20%
Nasdaq 73,180$ 0 73,180$ 0 73,180$ -0,11%
Bats USA - 0 - 0 72,600$ -1,81%
Börse Stuttgart 61,500€ 0 61,500€ 0 61,500€ -1,60%
Tradegate 61,000€ 65 61,500€ 64 61,250€ -0,81%
Dollar Indikation 72,134$ 0 73,290$ 0 72,712$ -0,29%

Fundamentaldaten der Advanced Energy Industries Inc. Aktie

Aktuelle Geschäftsentwicklung

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Income Statement: 10-Year-Summary

Datum Umsatz EBIT Gewinn EPS Dividende KGV KUV
2019 788,95 Mio. 67,19 Mio. 64,94 Mio. 1,69 - 43,10 3,54
2018 718,89 Mio. 172,38 Mio. 147,03 Mio. 3,74 - 19,46 3,86
2017 671,01 Mio. 198,19 Mio. 137,86 Mio. 3,43 - 21,20 4,29
2016 483,70 Mio. 128,08 Mio. 127,45 Mio. 3,18 - 22,87 5,97
2015 414,81 Mio. 105,44 Mio. -158,49 Mio. -3,86 - - 6,97
2014 583,10 Mio. 39,68 Mio. 46,98 Mio. 1,14 - 63,78 5,06
2013 547,00 Mio. 14,28 Mio. 32,09 Mio. 0,79 - 92,04 5,38
2012 451,93 Mio. 29,81 Mio. 20,58 Mio. 0,52 - 139,83 6,11
2011 516,80 Mio. 50,47 Mio. 36,31 Mio. 0,83 - 87,60 5,90
2010 459,41 Mio. 67,41 Mio. 58,66 Mio. 1,35 - 53,82 6,86
Die fundamentalen Daten werden von Facunda geliefert; Angaben in USD; Multiples werden mit dem aktuellen Kurs berechnet.

» Weitere Informationen

Profil der Advanced Energy Industries Inc. Aktie

Advanced Energy Industries, Inc. engages in the provision of precision power conversion, measurement, and control solutions. It offers products used in complex semiconductor and thin film plasma processes such as dry etch, strip, chemical and physical deposition; high and low voltage applications such as process control, analytical instrumentation and medical equipment; and in temperature-critical thermal applications such as material and chemical processing. The company was founded by Douglas S. Schatz in 1981 and is headquartered in Fort Collins, CO.
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